科晶大功率實驗室真空高溫管式爐內膛中嵌有ZrO2內襯，并采用Kanthal Super-1900硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可以達到1800℃，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態下，新材料樣品的燒結和退火。

實驗室真空高溫管式爐采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態下材料的燒結和退火。

實驗室科晶高溫真空管式爐是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統采用高精度可控硅移相觸發控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，Z高溫度可達1500℃

1200℃單溫區開啟式真空管式爐專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業，在可控多種氣氛及真空狀態下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的設備。

1200℃開啟式雙溫區管式爐zui高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。